Oprema za izhlapevanje s pomočjo ionskega žarka

Oprema za izhlapevanje s pomočjo ionskega žarka

Podrobnosti
Sistem IBAE združuje elektronski-žarek ali termično izhlapevanje z integriranim širokim{1}}žarkovnim virom ionov. Hkratno ionsko obstreljevanje med rastjo filma prenaša kinetično energijo na kondenzacijske adatome, odpravlja stebričaste mikrostrukture in proizvaja tanke filme s skoraj -nasipno-gostoto z minimalnim spektralnim premikom,-ki ga povzroča vlaga.
Klasifikacijo proizvodov
Tankoslojna-oprema za izhlapevanje
 
Pošlji povpraševanje
Opis
Tehnične parametre

Sistem IBAE združuje elektronski-žarek ali termično izhlapevanje z integriranim širokim{1}}žarkovnim virom ionov. Hkratno ionsko obstreljevanje med rastjo filma prenaša kinetično energijo na kondenzacijske adatome, odpravlja stebričaste mikrostrukture in proizvaja tanke filme s skoraj -nasipno-gostoto z minimalnim spektralnim premikom,-ki ga povzroča vlaga.

 

Tehnične specifikacije

 

Parameter

Specifikacija

Osnovni tlak

<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes)

Delovni tlak

1,0 x 10^(-1) do 1,0 x 10^(-2) Pa

Vrsta ionskega vira

Gridless End-Hall / Kaufmannov ionski vir

Energija ionskega žarka

50 eV do 1500 eV (stabilizirano z zaprto{2}}zanko)

Gostota toka ionskega žarka

0 do 2,5 mA/cm^2

Viri izhlapevanja

Več{0}}žepna E-žarna puška (4 x 15 cc do 6 x 40 cc) / odporni čolni

Držalo za substrat

Planetarna rotacijska naprava z ogrevanjem do 300 stopinj C

Enakomernost debeline

<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter

Nadzorni sistem

Siemens S7-1500 PLC + Industrijski PC (Inficon Deposition Controller)

 

Ključne značilnosti


Bombardiranje z dvojnim-načinom:Prenos kinetične energije zgosti filme pri nizkih temperaturah substrata, ščiti občutljivo optiko in polimerne substrate.


Ionska stabilizacija z zaprto{0}}zanko:Integrirani krmilniki masnega pretoka vzdržujejo stalen ionski tok skozi dolge proizvodne poteke, kar zagotavlja doslednost serije.


Modularna vakuumska komora:Struktura iz nerjavečega jekla 304L z elektro -polirano notranjostjo (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.


Samodejno zaporedje:Cikli črpanja, usedanja in odzračevanja,-ki jih upravlja PLC{1}}minimizirajo operativna odstopanja.

 

Konfiguracija vakuumskega sistema


Črpalke za grobo obdelavo:Suhe korenine in črpalke z lopaticami-brez olja.


Visokovakuumska črpalka:Magnetno levitirana turbomolekularna črpalka (1600 L/s).


Merilniki:Kombinirani kapacitivni manometri Pirani, hladno katoda in Baratron.


Ventil:Pnevmatski zaporni in kotni ventili s strojnimi varnostnimi zaporami.

 

Materiali za izhlapevanje in združljivost s podlago


Oksidi:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3


Fluoridi:MgF2, LaF3


Kovine:Au, Ag, Al, Ti, Cr


Substrati:Staljeni silicijev dioksid, BK7, silicijeve rezine, germanij, cinkov selenid (ZnSe) in toplo-odporni poliimid.

 

Aplikacije


Natančna optika:Ozkopasovni prepustni filtri in premazi DWDM, ki zahtevajo stabilne središčne valovne dolžine.


Laserska optika:Reflektorji z visoko-poškodbo-praga in-antirefleksni premazi.


Polprevodniki in fotonika:Dielektrični zaščitni sloji, pasivizacija in optični valovod.


sončna energija:Transparent Conductive oxide (TCO) modifikacija vmesnika.

 

Prilagajanje


Velikost komore:Prilagodljivi premeri od 600 mm do 1200 mm.


Izvorna postavitev:Do tri e-žarke in več toplotnih virov na platformo.


Meroslovje-na mestu:Integracija širokopasovnega optičnega nadzora (BOM) ali kvarčne kristalne mikrotehtnice (QCM).


Avtomatizacija:Robotski vmesniki za nalaganje substrata, skladni s standardi SEMI.

 

Kontrola kakovosti


Odkrivanje puščanja:Testiranje s helijevim masnim spektrometrom na komoro (občutljivost<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).


Izvor komponent:Tier-1 industrijske blagovne znamke (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).


Tovarniška sprejemljivost (FAT):72-urno neprekinjeno suho delovanje in preverjanje nanosa, ki meri lomni količnik in enakomernost pred odpremo.

 

Namestitev in tehnična podpora


Dokumentacija:Popoln angleški paket, vključno z električnimi shemami, diagrami P&ID in izvornimi kodami PLC.


Terenske storitve:Namestitev na ključ, kalibracija vakuuma in nastavitev receptov s strani inženirjev aplikacij.


Diagnostika na daljavo:Varen modul VPN za odpravljanje težav s programsko opremo in procesi.

 

pogosta vprašanja

 

V: Kako pomoč pri ionih spremeni lomni količnik oksida?

O: Energično obstreljevanje z ioni izžene ujete ostanke plinov in zgosti mikrostrukturo, pri čemer premakne lomni količnik filmov, kot sta Ta2O5 in TiO2, bližje vrednostim v razsutem stanju.

V: Kakšen je tipičen interval vzdrževanja za vir ionov?

O: Vzdrževalni intervali segajo od 150 do 300 ur obdelave, odvisno od procesnih plinov in delovne gostote moči.

V: Ali lahko ta sistem upravlja procese reaktivnega plina?

O: Da. Neodvisni krmilniki masnega pretoka vbrizgavajo reaktivne pline (O2, N2) neposredno v ionski vir in cone komore, povezane z varnostnimi tlačnimi stikali.

 

Priljubljena oznake: oprema za izhlapevanje s pomočjo ionskega žarka, proizvajalci, dobavitelji, tovarna opreme za izhlapevanje s pomočjo ionskega žarka

Pošlji povpraševanje
Kontaktirajte nasče imate kakšno vprašanje

Kontaktirate nas lahko preko telefona, elektronske pošte ali spodnjega spletnega obrazca. Naš strokovnjak vas bo kmalu kontaktiral.

Kontaktirajte zdaj!