Pregled izdelka
Ta tankoslojna oprema za izhlapevanje z elektronskim žarkom je zasnovana za visoko{0}}natančno fizično naparjevanje (PVD). Z uporabo fokusiranega visoko{2}}energetskega elektronskega žarka za bombardiranje izvornih materialov sistem doseže visoke stopnje izhlapevanja za kovine, okside in dielektrične materiale z visokim-tališčem-.
Sistem, zgrajen na modularni vakuumski arhitekturi, vključuje več-žepne elektronske puške, prilagodljive vpenjalne podlage in napredno-nadzor na kraju samem. Služi laboratorijem za raziskave in razvoj ter visoko{3}}zmogljivim proizvodnim linijam, ki zahtevajo strog nadzor nad stehiometrijo filma, adhezijo in optično zmogljivostjo.
-
![Oprema za izhlapevanje z elektronskim žarkom v visokem vakuumu]()
Oprema za izhlapevanje z elektronskim žarkom v visokem va...EBE-Serija visokovakuumskih sistemov za izhlapevanje z elektronskim žarkom odlaga-tanke plasti visoke čistosti za optične, polprevodniške in metalurške aplikacije. Z usmerjanjem magnetno...Prikaži več -
![Sistem za nanašanje tankega filma z elektronskim žarkom]()
Sistem za nanašanje tankega filma z elektronskim žarkomSistem nanašanja tankega filma z elektronskim žarkom zagotavlja usmerjeno PVD obdelavo visoke-čistosti za napredne raziskave in industrijsko proizvodnjo. Z uporabo fokusiranega, magnetno vodenega...Prikaži več -
![Oprema za vakuumsko izhlapevanje z elektronskim žarkom]()
Oprema za vakuumsko izhlapevanje z elektronskim žarkomTa sistem za vakuumsko izhlapevanje z elektronskim žarkom izvaja fizično naparjevanje (PVD) kovin, oksidov in dielektrikov z visokim-tališčem-. Z usmerjanjem fokusiranega elektronskega žarka v...Prikaži več -
![Oprema za nanašanje tankega filma z elektronskim žarkom]()
Oprema za nanašanje tankega filma z elektronskim žarkomTa industrijski sistem nanašanja z elektronskim žarkom uporablja magnetno usmerjene elektronske topove (3 kW do 15 kW) za usmerjanje energijskih tokov visoke-gostote v vodno-hlajena bakrena...Prikaži več -
![Tankoplastni sistem z elektronskim žarkom]()
Tankoplastni sistem z elektronskim žarkomEBE{0}}Series Electron Beam Evaporation System je zasnovan za fizično naparjevanje (PVD) kovin z visokim-tališčem-, dielektrikov in optičnih materialov. Z uporabo magnetno odklonjenega,...Prikaži več -
![Tankoplastna oprema za izhlapevanje z elektronskim žarkom]()
Tankoplastna oprema za izhlapevanje z elektronskim žarkomSerija EBE-V600 je platforma za fizično naparjevanje (PVD) v-industrijskem obsegu, zasnovana za natančno tanko{3}}prevleko optičnih komponent, polprevodniških naprav in naprednih materialov. Z...Prikaži več
Tehnične specifikacije
|
Parameter |
Razpon specifikacij |
Opombe / Standardna konfiguracija |
|
Končni osnovni tlak |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Doseženo s kriogenimi ali turbo{0}}molekularnimi črpalnimi skupinami |
|
Dimenzije komore |
Prilagojeno (500 mm do 1200 mm notranjega premera) |
Nerjaveče jeklo 304L / 316L, elektro -polirano |
|
E-Ocena moči pištole |
6 kW do 15 kW (več-žepni generatorji pometanja) |
Programabilna deformacija žarka in indeksiranje več-lončkov |
|
Stopnja nanosa |
0,1 nm/s do 10 nm/s |
Realno{0}}krmiljenje s-zaprto zanko prek monitorja s kvarčnimi kristali |
|
Enakomernost debeline filma |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Planetarni ali kupolasti nosilec substrata s spremenljivo hitrostjo vrtenja |
|
Temperatura podlage |
Okolje do 800 stopinj |
Integrirano sevalno ogrevanje s toplotno povratno informacijo PID |
Ključne lastnosti opreme
Visoko{0}}stabilna elektronska pištola:
Ima magnetni odklon in več{0}}točkovno ostrenje za preprečevanje lokalnega pregrevanja izvornih materialov in odpravo pljuvanja med reaktivnim izhlapevanjem.
Modularna zasnova lončka:
Opremljen s 4 do 6-žepnimi menjalnimi žarišči, ki omogočajo večplastno nanašanje brez porušitve vakuuma.
Napredna vakuumska blokada:
PLC{0}}krmiljeni pnevmatski ventili, avtomatizirano grobo obdelavo/visoko{1}}vakuumsko zaporedje in zapore ščitijo pred izpadom hladilne vode in anomalijami električne energije.
Komora z nizko-kontaminacijo:
Notranji ščit uporablja elektro -polirano nerjaveče jeklo z odstranljivimi oblogami za hitro zmanjšanje delcev in vzdrževanje.
Filmski materiali in podlage
Združljivi materiali za izhlapevanje
Kovine: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektriki in oksidi: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Vrste substratov
Silicijeve rezine (2 do 12 palcev)
Optično steklo, kremenčev dioksid in kremenčevi substrati
Fleksibilne polimerne folije (poliimid, PET prek modulov z-na-zvitka)
Keramične podlage (Al2O3, AlN)
Aplikacije
Optični premazi:
Pro-prevleke (AR), oz-filtri in zrcala z visoko-odbojnostjo za laserske in fotonske sisteme.
Polprevodniške naprave:
Oblikovanje ohmičnega kontakta, metalizacija vrat in obdelava dvig{0}}za mikroelektroniko.
Optoelektronika:
Transparentni prevodni oksidni (TCO) sloji in tanki filmi za zaslone OLED in fotovoltaične celice.
Napredne raziskave in razvoj:
Raziskovalne tanko{0}}plastne magnetne plasti, superprevodni filmi in več-slojne heterostrukture.
Prilagajanje in konfiguracija sistema
Vsak-sistem s tanko plastjo je konfiguriran tako, da se ujema s specifičnimi procesnimi recepti in postavitvami objektov. Razpoložljive inženirske prilagoditve vključujejo:
Izbira črpalnega sklada:
Turbo-molekularne črpalke (TMP), kriočrpalke ali konfiguracije-difuzije olja, prilagojene zahtevam po osnovnem vakuumu in pretoku.
Naloži-integracijo ključavnice:
Ročno nalaganje-zaklepanje ali avtomatizirani več-komorni grozdni sistemi za ohranjanje ultra-visoke celovitosti vakuuma in povečanje prepustnosti rezin.
Meroslovje-na mestu:
Integracijska vrata za spektroskopske elipsometre, optične monitorje ali analizatorje ostankov plina (RGA).
Nadzorna programska oprema:
Lastniški vmesnik PLC/HMI s shranjevanjem receptov, beleženjem podatkov in komunikacijskimi protokoli SECS/GEM za integracijo pametne tovarne.
Proizvodnja in nadzor kakovosti
Izdelava plovila:
Vse vakuumske komore so podvržene testiranju puščanja s helijevim masnim spektrometrom s pragom zavrnitve < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Celovitost zvara:
TIG varjenje, izvedeno pod zaščito inertnega plina, ki mu sledi pasivizacija notranje površine in mehansko poliranje za zmanjšanje izločanja plinov.
Tovarniško sprejemno testiranje (FAT):
72-urni preskus neprekinjenega suhega-teka, ki meri črpalne krivulje, natančnost pometanja e-pištole, odzivne čase zaklepanja in toplotno stabilnost pred zaboji.
Skladnost in standardi:
Proizveden v skladu s certificiranim sistemom vodenja kakovosti ISO 9001, s sistemi, zasnovanimi za izpolnjevanje direktiv CE in ustreznih SEMI (S2/S8) varnostnih in ergonomskih smernic.
pogosta vprašanja
Dobro-smo znani kot eden vodilnih proizvajalcev in dobaviteljev tankoslojne opreme za uparjanje z elektronskim žarkom na Kitajskem. Če nameravate kupiti tankoslojno opremo za izparevanje elektronskih žarkov po meri, izdelano na Kitajskem, vas prosimo, da dobite cenik naše tovarne. Za posvet o ceni nas kontaktirajte.
