Pregled izdelka

 

PVD Composite Thin Film Equipment je industrijska platforma za vakuumsko nanašanje, izdelana za nanašanje več-plastnih, zlitin in nanokompozitnih tankih filmov. Z integracijo magnetronskega razprševanja in virov katodnega obloka v eni sami vakuumski komori sistem omogoča natančen nadzor nad mikrostrukturo filma, preostalimi napetostmi in medfaznim oprijemom. Platforma, izdelana za neprekinjeno proizvodnjo ter napredne raziskave in razvoj, se prilagaja kovinskim, keramičnim in polimernim substratom s prilagodljivo geometrijo komor.

 
 
Tehnične specifikacije

 

Parameter

Razpon specifikacij

Končni vakuumski tlak

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Delovni tlak

0,1 Pa - 5.0 Pa

Temperatura podlage

Okolje do 800 stopinj (zaprta{1}}zanka PID krmiljena)

Viri usedlin

Nastavljivo: DC/RF magnetronsko razprševanje, pulzni DC, filtriran katodni oblok

Enakomernost debeline

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Material komore

Nerjaveče jeklo 304L/316L, mehansko brušeno in elektro -polirano (Ra<= 0.4 um)

Integracija napajanja

MF generatorji (10-100 kHz), RF generatorji (13,56 MHz), impulzna enosmerna prednapetost

Nadzorni sistem

Industrijski PLC + IPC z avtomatiziranim izvajanjem receptov, nadzorom zaklepanja in beleženjem podatkov o serijah

 

Postopek nanašanja kompozitov

Sistem uporablja arhitekturo hibridnega fizičnega nanašanja iz pare, ki združuje tehnologijo magnetronskega razprševanja in katodnega obloka.

Več{0}}Sinergija virov:

Hkratno ali zaporedno delovanje več katod omogoča nenadne ali stopnjevane kompozicijske prehode čez filmski sklad.

 

Pred-čiščenje z ionskim jedkanjem:

Stopnje RF ali DC plazemskega čiščenja odstranijo naravne okside in površinske kontaminante pred nanašanjem, da povečajo oprijem-na-podlago.

Nadzor reaktivnega odlaganja:

Optična emisijska spektroskopija z zaprto{0}} zanko (OES) regulira vbrizgavanje reaktivnega plina (O2, N2, C2H2), da ohrani stabilno stehiometrijo spojin in prepreči zastrupitev tarče.

Nagib substrata:

Sinhronizirani impulzni prednapetostni napajalniki bombardirajo rastoči film z visoko{0}}energijskimi ioni, zgostijo mikrostrukturo in prilagodijo preostalo tlačno napetost.

 

Filmski materiali

Oprema podpira širok spekter ciljnih materialov za prilagojene funkcionalne zahteve:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Nitridi in karbidi prehodnih kovin:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN za odpornost proti obrabi in koroziji.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokompozitni in večplastni sistemi:

TiSiN, AlTiSiN, kovinski/keramični nanoplasti za izjemno trdoto in visoko{0}}temperaturno toplotno stabilnost.

 
PVD Composite Thin Film System

Prozorni prevodni oksidi (TCO):

ITO, AZO, IGZO za optoelektronske in fotovoltaične aplikacije.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Čiste kovine in zlitine:

Ti, Cr, Al, Cu, nerjaveče jeklo, NiCr za električne kontaktne in difuzijske pregradne plasti.

 
Aplikacije
 
 
 

Orodja za natančno rezanje:

Nanos super{0}}trdnih prevlek z nizkim-trenjem (npr. TiAlN) na ploščice iz karbidne trdine, svedre in čelna-rezkarja za podaljšanje življenjske dobe pri visokih toplotnih obremenitvah.

 
 

Avtomobilske komponente:

Folije za-zmanjšanje trenja in{1}}odporne proti obrabi na batnih obročkih, delih za vbrizgavanje goriva in sklopih zobnikov.

 
 

Optoelektronika in zasloni:

Prevodne oksidne plasti z nizko-upornostjo, visoko-prepustnostjo za plošče na dotik in substrate sončnih celic.

 
 

Medicinski pripomočki:

Biokompatibilni in{0}}odporni premazi na kirurških instrumentih in ortopedskih vsadkih.

 

 

Prilagajanje in konfiguracija sistema

Inženirske konfiguracije so prilagojene specifičnim omejitvam proizvodnega obrata in procesnim recepturam:

Velikost komore:

Možnosti cilindrične ali pravokotne komore, ki segajo od šaržnih sistemov za raziskave in razvoj (premer 500 mm) do velikih{1}}sistemov zapornih-proizvodnih obremenitev (1000 mm+).

01

Izbira črpalne zbirke:

Ujemanje koreninskih puhal, turbomolekularnih črpalk in kriogenih črpalk na podlagi zahtevanih časov izklopa-črpanja in profilov obremenitve s plinom.

02

Pritrditev podlage:

Stopnje planetarne rotacije po meri, 3-osna rotacija satelita ali moduli-roll-to-roll, zasnovani za kompleksne 3D-geometrije ali neprekinjene mreže.

03

Stopnja avtomatizacije:

Pol-avtomatizirane konfiguracije ročnega nalaganja ali popolnoma avtomatizirani sistemi za vakuumski prenos z robotskim ravnanjem s substratom.

04

 

Proizvodnja in nadzor kakovosti
 

Odkrivanje puščanja:

Vsaka vakuumska komora je podvržena testiranju puščanja s helijevim masnim spektrometrom do praga < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Pregled zvara:

Stranski-vakuumski zvari so TIG varjeni, brušeni in polirani, čemur na zahtevo sledi rentgenski -inšpekcijski pregled ali pregled s penetrantom.

Električna in varnostna skladnost:

Nadzorne plošče, izdelane v skladu s standardi NFPA 79 ali CE/IEC, vključujejo strojne zapore za pretok vode, tlak plina in električno varnost.

Tovarniško sprejemno testiranje (FAT):

-Testiranje pred odpremo vključuje 72-urno neprekinjeno sušenje-ciklično delovanje, preverjanje delovanja vakuuma in preskusno nanašanje premaza z uporabo receptov, ki jih določi stranka.

 

 

Namestitev in tehnična podpora

Navodila za pripravo mesta:Obsežen dokument z zahtevami za objekt je zagotovil podrobne uporabniške vmesnike (pretok/tlak hladilne vode, električna obremenitev, stisnjen zrak, izpušni plini).


Zagon na-gradbišču:Inženirji storitve na terenu izvajajo mehansko poravnavo, vakuumske preglede puščanja, električne-veze in začetno kalibracijo.


Nastavitev recepta procesa:-Sodelovanje na mestu z metalurgi in procesnimi inženirji strank za zaklepanje parametrov ciljne debeline filma, napetosti in trdote.


Podpora za življenjski cikel:Vmesnik za oddaljeno diagnostiko, lokaliziran inventar rezervnih delov in programi načrtovanega preventivnega vzdrževanja.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

pogosta vprašanja

 

 

V: Kakšen je tipičen čas-izklopa črpalke, da se doseže osnovni tlak?

O: Z uporabo standardnih visoko{0}}vakuumskih konfiguracij (turbomolekularne ali kriogene črpalke v paru s črpalkami s koreninami/rotacijskimi lopaticami) se komora evakuira iz atmosfere na < 5,0 x 10^-4 Pa v 25 do 40 minutah, odvisno od prostornine komore in obremenitve izločanja vlage.

V: Ali lahko sistem samodejno preklopi med reaktivnim in ne{0}}reaktivnim načinom razprševanja?

O: Da. Programska oprema za krmiljenje PLC dinamično upravlja krmilnike masnega pretoka (MFC) in izhode napajanja, kar omogoča avtomatiziran prehod med nanosom kovin in tvorbo reaktivne spojine v enem samem procesnem ciklu.

V: Katere geometrije podlage lahko sprejme standardna stopnja planetarne rotacije?

O: Standardna 3-osna planetarna naprava upravlja s kompleksnimi 3D komponentami, kot so rezalna orodja in avtomobilski ventili. Šablone po meri je mogoče izdelati za ravne podlage do 400 mm x 400 mm ali valjaste zvitke.

V: Kako zagotovite enakomernost debeline filma v velikih serijah?

O: Enotnost je dosežena z optimizirano razdaljo-od-podlage, simulacijo lokaliziranega profila magnetnega polja in več{2}}rotacijo planeta. Dejanska enotnost se preveri s testiranjem vzorca pri priči med FAT.

V: Kakšne so komunalne zahteve za standardno industrijsko enoto?

O: Običajno zahteva 3-fazno napetost 380 V/480 V (50/60 Hz), dovod ohlajene hladilne vode (približno 15 do 20 stopinj pri 3 do 4 barih), stisnjen zrak (6 barov) za pnevmatske ventile in čist suh zrak ali dušik za odzračevanje. Točne obremenitve se razlikujejo glede na konfiguracijo napajanja.

Dobro-smo znani kot eden vodilnih proizvajalcev in dobaviteljev opreme za tankoslojne kompozite pvd na Kitajskem. Če nameravate kupiti prilagojeno opremo za tanko plast pvd kompozitov, izdelano na Kitajskem, vas prosimo, da dobite cenik naše tovarne. Za posvet o ceni nas kontaktirajte.

Pošlji povpraševanje
Kontaktirajte nasče imate kakšno vprašanje

Kontaktirate nas lahko preko telefona, elektronske pošte ali spodnjega spletnega obrazca. Naš strokovnjak vas bo kmalu kontaktiral.

Kontaktirajte zdaj!