Hibridni tankoslojni sistem za nanašanje PVD združuje toplotno izhlapevanje, izhlapevanje z elektronskim žarkom (e-žarek) in RF/DC magnetronsko razprševanje v eni sami vakuumski arhitekturi. Ta platforma omogoča zaporedno ali ko-nanašanje kovin, zlitin in dielektrikov brez porušitve vakuuma, kar preprečuje oksidacijo na površini. Sistem, zasnovan za ustanove za raziskave in razvoj ter pilotne proizvodne linije, obravnava substrate do 6 palcev z avtomatsko več-osno rotacijo.
Tehnične specifikacije
|
Parameter |
Specifikacija |
|
Končni osnovni tlak |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Čas-črpanja |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Velikost substrata |
Do 6-palčni premer rezin / držala po meri |
|
Enakomernost debeline filma |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Viri usedlin |
Do 3 žepi e-žarka, 2 termalna čolna, 4 magnetronske katode |
|
Temperatura podlage |
Okolje do 800 stopinj C (nadzorovano s PID) |
|
Material komore |
304L / 316L elektropolirano nerjaveče jeklo |
|
Varnostna skladnost |
skladen s CE; komponente, izdelane po standardih UL / NFPA na zahtevo |
Ključne značilnosti
Modularne vtičnice:Zamenljive izvorne prirobnice omogočajo hitro rekonfiguracijo med katodami za razprševanje in uparjalniki s toplotnimi/e-žarki.
Izolacijska arhitektura:Pnevmatski zaporni ventili izolirajo procesno komoro od visoko-vakuumskega sklada, da zmanjšajo nastajanje delcev.
Spremljanje-na kraju samem:Namenska vrata za senzorje mikrotehtnice s kvarčnimi kristali (QCM) in optično emisijsko spektroskopijo (OES).
Zaklenjeni varnostni PLC:Strojne zapore preprečujejo aktiviranje vira med visokim tlakom, izpadom hladilne vode ali kršitvami varnosti.
Konfiguracija vakuumskega sistema
Črpalka za grobo obdelavo:Črpalka s suhim spiralom (30 m^3/h) za odpravo povratnega toka ogljikovodikov.
Visokovakuumska črpalka:Magnetno levitirana turbomolekularna črpalka (1200 L/s za N2), podprta s kriogeno pastjo.
Merilniki:Kombinirani senzorji Pirani in senzorji s hladno katodo zajemajo atmosfero do 10^-7 Pa.
Bakeout:Kartušni grelni plašči z zunanjimi izolacijskimi oblogami, ki dosežejo do 150 stopinj C.
Združljivost materialov in podlage
Materiali za izhlapevanje:
Kovine:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektriki in oksidi: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Polprevodniki:Si, Ge
Vrste substratov:Mono{0}}kristalne silicijeve rezine, steklo, kremen, poliimidni filmi in kovinske folije.
Aplikacije
Optoelektronske naprave:Transparentne prevodne elektrode (ITO) in več-plastni reflektorji za OLED in sončne celice.
Mikroelektronska embalaža:Pod-metalizacija (UBM) in začetne plasti za embalažo-na ravni rezin.
Napredne raziskave in razvoj:Strukture kvantnih naprav, tanki filmi superprevodnikov in magnetni tunelski spoji (MTJ).
Možnosti prilagajanja
Komorna lestvica:Razširjene dimenzije za 12-palčne podlage ali integracijo predala za rokavice.
Nastavitev vira:Volumni lončkov po meri, RF prednapajalniki in moduli-nanašanja s pomočjo ionov (IAD).
Avtomatizacija:Upravljanje receptov na zaslonu na dotik ali popolna skladnost s tovarniško avtomatizacijo SECS/GEM.
Kontrola kakovosti
Test tesnjenja:Preskušanje s helijevim masnim spektrometrom na komoro (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Merski pregledi:CMM preverjanje razdalj-od-podlage in toleranc prirobnic.
Električno testiranje:Hi-preizkušanje napetosti, preverjanje neprekinjenosti ozemljitve in revizije EHS na vseh visoko{1}}napetostnih vodih.
Namestitev in podpora
Tovarniško sprejemno testiranje (FAT):-Preverjanja osnovnega tlaka, delovanja vira in avtomatiziranega kroženja v našem obratu pred odpremo.
Namestitev na terenu:Na-mehansko poravnavo na kraju samem, preverjanje priključka na električno omrežje in sprejemljivo testiranje na mestu (SAT).
Dokumentacija:Celotna dobava vključuje električne sheme, diagrame P&ID, varnostne kopije PLC-ja in potrdila o preskusu mlina.
pogosta vprašanja
V: Ali lahko sistem preklaplja med reaktivnim razprševanjem in toplotnim izhlapevanjem v enem samem zagonu?
O: Da. Pnevmatski zaklopi izolirajo vsak vir, kar omogoča zaporedno izvedbo brez prekinitve vakuuma.
V: Kakšne so komunalne zahteve objekta?
O: Zahteva 3-fazno napajanje 380 V/480 V, hladilno vodo (18 °C do 22 °C pri 0,3 MPa), stisnjen zrak (0,5 do 0,7 MPa) in izpušni vod črpalke za grobo obdelavo.
V: Kako se prepreči-navzkrižna kontaminacija med kovinskimi viri?
O: Dimniki posameznih virov, usmerjene lopute in fizične lopute zmanjšajo navzkrižno-govorenje materiala med{-izvajanjem več virov.
Priljubljena oznake: pvd hibridni sistem za nanašanje tankega filma, Kitajska pvd hibridni sistem za nanašanje tankega filma proizvajalci, dobavitelji, tovarna
